中芯國際45納米工藝技術再獲重大進展，繼與IBM簽定技術授權合作協(xié)議后，中芯45納米最重要武器浸潤式微顯影(immersion lithography)設備在29日正式由上海浦東機場，移往中芯上海廠區(qū)Fab8，這也是中芯自有第1臺45納米工藝技術設備，預計最快2008年底進入試產(chǎn)階段。另外，由中芯所代管武漢新芯，之前亦曾進口這款浸潤式微顯影機種。

中芯自有第1臺45納米浸潤式微顯影機種，29日搭乘波音747國際貨運包機直接運抵上海浦東國際機場，整臺設備重達約40噸，體積逾160立方米，為進行運輸，約分裝29個溫控集裝箱，由于設備極度精密，享有超貴賓級待遇和紅地毯式全程護送，直接運抵中芯上海廠區(qū)Fab8，全程中芯可說小心到家，并未對外公開。

目前全球供應浸潤式微顯影機種有3家廠商，分別是荷蘭ASML、日商佳能(Canon)及尼康(Nikon)，據(jù)了解，中芯自用機款與之前武漢新芯所進口機種，都是向ASML采購，價值不斐，由于浸潤式微顯影機種是半導體工藝中最敏感的1道工藝技術，包括運送、裝卸都必須相當小心。

中芯則透露，上海12英寸廠Fab8中4條生產(chǎn)線首批產(chǎn)品仍將采用90納米工藝，但亦積極醞釀65、45納米芯片生產(chǎn)事宜，并計劃2008年底試產(chǎn)45納米芯片。中芯日前已宣布加入IBM 45納米工藝技術陣營，技術來源已不成問題，加上最關鍵設備已到位，業(yè)界紛揣測中芯是為哪家客戶生產(chǎn)45納米芯片。此外，中芯總裁兼首席執(zhí)行長張汝京亦承諾2009年6月將引進浸潤式光刻機，成為未來中芯量產(chǎn)45納米芯片有力保證。

目前在晶圓代工領域，45納米工藝技術仍以臺積電取得領先地位，面對競爭對手來勢洶洶，臺積電已率先以40納米工藝技術取代45納米，并配合完整設計流程8.0、9.0版本，協(xié)助客戶從設計快速進入成功量產(chǎn)，盡管40納米已進入量產(chǎn)，但最快2009年才會明顯放量，2008年還是以65納米工藝增長最快，而包括聯(lián)電、新加坡特許(Chartered)等也緊追在后。

標簽： 計劃 問題

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